结论概述：奥普特获得“一种无影光源及检测装置”的实用新型专利授权后，其他企业使用类似技术是否构成侵权，需从专利保护范围、技术特征对比、是否落入保护范围、是否存在合法抗辩理由等多个维度进行综合判断。结合新闻背景，奥普特的新专利涉及特定的无影光源及检测装置技术，其他企业若未经许可使用相同或等同技术，可能构成侵权。
一、专利保护范围与侵权判定原则
根据《中华人民共和国专利法》第十一条的规定，实用新型专利权被授予后，除本法另有规定的以外，任何单位或者个人未经专利权人许可，都不得实施其专利，即不得为生产经营目的制造、使用、许诺销售、销售、进口其专利产品，或者使用其专利方法以及使用、许诺销售、销售、进口依照该专利方法直接获得的产品。侵权判定主要依据以下原则：
- 全面覆盖原则：被控侵权产品或方法的技术特征需全面覆盖专利权利要求书中的所有技术特征，即每一项技术特征均相同或等同。
- 等同原则：即使被控侵权产品或方法的技术特征与专利权利要求书中的技术特征不完全相同，但若以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，且本领域普通技术人员无需经过创造性劳动就能够联想到的，也视为等同侵权。
二、结合新闻背景分析奥普特专利的技术特征
根据新闻背景，奥普特获得的“一种无影光源及检测装置”实用新型专利，其技术特征主要包括：
- 平面同轴光源：包括导光板和设置在导光板四周的灯条，导光板背面设置有由若干个弧形凸点组成的光线反射层，反射灯条射出的光线，使光线从导光板正面射出。
- 半球壳：设置在平面同轴光源的出光侧，边沿与平面同轴光源密封连接，内壳面设置有漫反射涂层，并开设有供工件进入检测工位的过料槽，过料槽位于平面同轴光源的正下方。
三、其他企业使用类似技术是否构成侵权的判断
- 技术特征对比：其他企业若使用类似技术，需首先对比其技术特征与奥普特专利权利要求书中的技术特征是否相同或等同。若存在显著差异，则不构成侵权；若基本相同或等同，则可能构成侵权。
- 是否落入保护范围：若其他企业的技术特征全面覆盖了奥普特专利权利要求书中的所有技术特征，或虽未全面覆盖但符合等同原则，则落入奥普特专利的保护范围，构成侵权。
- 是否存在合法抗辩理由：其他企业若主张其使用类似技术不构成侵权，需提供合法抗辩理由，如：
- 先用权抗辩：若其他企业在奥普特专利申请日前已经制造相同产品、使用相同方法或者已经作好制造、使用的必要准备，并且仅在原有范围内继续制造、使用的，不视为侵犯专利权。
- 合法来源抗辩：若其他企业能够证明其使用的技术来源于合法渠道，如从专利权人处合法购买、受让或经许可使用等，则不构成侵权。
- 专利无效抗辩：若其他企业能够证明奥普特的专利存在无效情形，如不符合专利法规定的授权条件、存在重复授权等，则该专利自始无效，其他企业使用类似技术不构成侵权。
四、对公众的启示与建议
- 加强专利意识：企业应重视专利的申请与保护，及时将创新成果转化为专利权，以维护自身合法权益。
- 谨慎使用类似技术：其他企业在使用类似技术时，应进行充分的技术特征对比和侵权风险评估，避免未经许可使用他人专利技术。
- 寻求专业法律意见：若对专利侵权问题存在疑问或争议，建议及时咨询专业律师，以获取准确的法律意见和解决方案。
综上所述，奥普特获得“一种无影光源及检测装置”的实用新型专利授权后，其他企业使用类似技术是否构成侵权，需从多个维度进行综合判断。若您对此类问题存在疑问或需要进一步的法律帮助，请直接向我咨询。