关于您设计的“两弹一星”纪念奖章是否会侵权的问题，结论需分情况讨论，具体分析如下：

1. 若奖章设计直接复制或高度近似已有作品

• 法律风险：若您的设计直接复制了他人已登记的版权作品（如雕塑、图案、徽章等），或与在先商标、外观设计专利构成高度近似，可能构成著作权侵权或商标/专利侵权。
• 关键点：
  • 著作权：保护原创性表达，如奖章的图案、造型、色彩搭配等。若他人已登记版权，且您的设计与其构成实质性相似，则侵权风险极高。
  • 商标权：若“两弹一星”相关文字、图形已被注册为商标（如纪念品类别），您的使用可能违反《商标法》第57条，构成商标侵权。
  • 专利权：若奖章的立体造型已申请外观设计专利，您的设计可能侵犯其专利权。

2. 若奖章设计为原创且未借鉴他人作品

• 法律风险较低：若您的设计完全独立创作，且未使用他人商标、专利或受版权保护的表达，则侵权风险较小。但需注意以下例外：
  • 避免误导性使用：若奖章设计易使公众误认为与官方“两弹一星”纪念活动或授权单位有关联（如使用相似名称、标志），可能涉及《反不正当竞争法》下的“混淆行为”。
  • 公共领域元素：若设计仅使用“两弹一星”这一历史事件名称或公开符号（如原子模型、卫星图案等公共领域元素），且未与其他在先权利冲突，则侵权风险较低。

3. 特殊情形：官方授权或合理使用

• 官方授权：若您的设计获“两弹一星”相关权利方（如国家国防科技工业局、纪念馆等）授权，则可合法使用相关元素。
• 合理使用：在极少数情况下，若设计仅用于个人学习、研究或评论（如学术文章配图），且未影响原作品市场价值，可能构成《著作权法》下的合理使用，但需严格符合法定条件。

法律建议

1. 检索在先权利：

   • 通过中国版权保护中心官网查询相关图案、造型的版权登记情况。
   • 通过国家知识产权局商标局官网检索“两弹一星”相关商标注册信息。
   • 通过国家知识产权局专利局官网检索奖章造型的外观设计专利。

2. 原创性证明：

   • 保留设计草图、创作过程记录（如时间戳、版本迭代文件），以证明设计的独立性。

3. 风险规避：

   • 避免使用与官方纪念奖章高度相似的名称、标志或造型。
   • 若需使用“两弹一星”相关元素，可考虑通过变形、抽象化或组合创新降低侵权风险。

4. 咨询专业律师：

   • 若涉及商业用途（如生产销售奖章），建议提前委托律师进行权利清查和侵权风险评估，必要时申请版权登记或专利保护。

总结：是否侵权取决于您的设计是否与在先权利冲突。若为完全原创且未借鉴他人作品，风险较低；若存在复制或近似情形，则需进一步检索权利状态。如有具体设计图或使用场景，可向我提供更多细节，以便进一步分析。